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一种晶圆清洗用胶圈及晶圆清洗装置 

申请/专利权人:北京晶亦精微科技股份有限公司

申请日:2023-11-17

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN221269032U

主分类号:B08B1/12

分类号:B08B1/12;B08B1/20;B08B1/34;H01L21/67;B08B3/02

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权

摘要:本实用新型提供一种晶圆清洗用胶圈及晶圆清洗装置,属于晶圆清洗技术领域,其中晶圆清洗用胶圈包括胶圈本体,所述胶圈本体的外周具有齿部,所述齿部外周具有环形卡槽,所述环形卡槽与所述胶圈本体同轴设置,所述环形卡槽用于放置晶圆;所述齿部的齿根圆直径小于所述环形卡槽的内径。本实用新型提供的晶圆清洗用胶圈,晶圆放置到环形卡槽中后,晶圆底部与胶圈本体之间设置有间隙,提高胶圈与晶圆间清洗液的流动性,降低因化学液积液导致晶圆的转速波动,保证了晶圆的清洗效果。

主权项:1.一种晶圆清洗用胶圈,其特征在于,包括:胶圈本体1,包括外圈5和内圈6,所述内圈6设置于所述外圈5内侧,所述内圈6和所述外圈5之间通过多个支撑件7连接,相邻两个所述支撑件7之间具有缓冲空间8;所述外圈5的外圆周上具有齿部2,所述齿部2外周具有环形卡槽3,所述环形卡槽3与所述胶圈本体1同轴设置,所述环形卡槽3用于放置晶圆4;所述齿部2的齿根圆直径小于所述环形卡槽3的内径。

全文数据:

权利要求:

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