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利用EUV光刻的电网架构和优化 

申请/专利权人:超威半导体公司

申请日:2018-04-27

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN110582767B

主分类号:G06F30/18

分类号:G06F30/18;H01L23/528;G06F30/20;G06F113/04

优先权:["20170501 US 62/492,705","20170628 US 15/636,278"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2020.05.22#实质审查的生效;2019.12.17#公开

摘要:描述了一种用于对标准单元的电网连接进行布局的系统和方法。在各个实施方案中,标准单元将单向轨道用于多个电源竖直金属3层轨道和电源水平金属2轨道中的每个。所述多个竖直金属3层柱中的一个或多个以基于电源水平金属2层带的节距的最小长度布线。用于电源连接或接地连接的一个或多个竖直金属1柱在有效区域中从上到下布线,从而允许将多个位置用于连接到所述多个电源水平金属2层带中的一个。将两个或多个电源水平金属2层带放置在电源金属2层轨道内而彼此不连接。

主权项:1.一种用于标准单元的电网布局,其包括:第一金属层中的彼此不连接的第一多个独立电源柱,所述第一多个独立电源柱以单向布线进行布线,所述第一多个独立电源柱中的每个提供与所述标准单元内的器件的电源连接;与所述第一金属层不同的第二金属层中的彼此不连接的第二多个独立电源柱,所述第二多个独立电源柱以单向布线进行布线,所述第二多个独立电源柱中的每个具有小于所述标准单元的高度的长度;以及与所述第一金属层和所述第二金属层中的每个不同的第三金属层中的彼此不连接的多个独立电源带,所述多个独立电源带以单向布线进行布线,所述多个独立电源带中的每个将所述第一多个独立电源柱中的一个连接到所述第二多个独立电源柱中的一个,其中在包括电源柱或电源带的每个金属层的轨道中形成间隙,其中所述间隙在具有所述间隙的每个金属层内提供额外的非电源信号布线。

全文数据:

权利要求:

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