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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2018-06-21
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN111108582B
主分类号：H01L21/027
分类号：H01L21/027;G03F7/20;H01J37/305
优先权：["20170808 US 62/542,310"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.07.05#授权;2020.05.29#实质审查的生效;2020.05.05#公开
摘要：本发明涉及用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置和方法。曝光装置包括带电粒子光学装置，该带电粒子光学装置包括用于生成带电粒子束的带电粒子源和用于阻挡来自带电粒子源的带电粒子束的至少一部分的带电粒子阻挡元件和或限流元件。带电粒子阻挡元件和限流元件包括基本上平坦的衬底，该衬底设置有包含硼、碳或铍的吸收层。衬底还优选地包括用于透射带电粒子的一个或多个孔。吸收层被布置为与至少一个孔间隔开。
主权项：1.一种用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置，所述曝光装置包括用于形成带电粒子束、并且将所述带电粒子束的至少一部分投影到所述目标上的带电粒子光学装置，所述带电粒子光学装置包括：-用于生成所述带电粒子束的带电粒子源，以及-带电粒子阻挡元件，所述带电粒子阻挡元件能够阻挡来自所述带电粒子源的所述带电粒子束的至少一部分，其中所述带电粒子阻挡元件包括衬底，所述衬底包括允许所述带电粒子束的至少一部分通过的至少一个孔，其中所述衬底的面对所述带电粒子源或面对后向散射的粒子和或二次电子的源的表面的一部分设置有包含硼或铍的材料的吸收层，以至少部分地吸收撞击在其上的带电粒子，其中设置有所述吸收层的所述衬底的所述表面的所述一部分的至少一部分包括导电材料，其中，所述导电材料将电荷从所述吸收层转移走，以及其中所述吸收层被布置为与所述至少一个孔间隔开。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子阻挡元件、包括这样的元件的曝光装置以及使用这样的曝光装置的方法
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