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一种激光直写曝光机光源 

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申请/专利权人:张家港奇点光电科技有限公司

摘要:本发明属于激光曝光技术领域,具体的说是一种激光直写曝光机光源,包括曝光模块,曝光模块的前端设有曝光窗口,曝光模块的下端设有底座框架,底座框架的内部设有调控装置,且调控装置设在曝光模块的下端;调控装置包括:放置平台,放置平台设在底座框架的表面。通过设置第一伸缩罩与第二伸缩罩,在曝光之前,启动调节杆,调节杆将会带着第一伸缩罩向下移动,在移动一段距离之后,放置平台将会向上移动,最终放置平台将会移动到第一伸缩罩的内部,就可以使得曝光所用的基片处于黑暗的环境中,从而避免受到外部光线的影响,且位于第二伸缩罩内部的反射镜也将会被打开,从而可以反射更多的光线,增加曝光亮度,提高曝光效果。

主权项:1.一种激光直写曝光机光源,其特征在于:包括曝光模块(1),所述曝光模块(1)的前端设有曝光窗口(2),所述曝光模块(1)的下端设有底座框架(3),所述底座框架(3)的内部设有调控装置(4),且调控装置(4)设在曝光模块(1)的下端;所述调控装置(4)包括:放置平台(402),所述放置平台(402)设在底座框架(3)的表面,且放置平台(402)在曝光窗口(2)的下端,放置平台(402)的表面放置有基片(5);固定框(401),所述固定框(401)设在曝光窗口(2)的侧壁;第一伸缩罩(406),所述第一伸缩罩(406)在固定框(401)的内部滑动;第二伸缩罩(409),所述第二伸缩罩(409)与第一伸缩罩(406)相连接,且第二伸缩罩(409)在固定框(401)的内部滑动;反射镜(410),所述反射镜(410)转动连接在第二伸缩罩(409)的表面,且反射镜(410)在初始状态下与固定框(401)的内壁相抵接;第一卷簧(411),所述第一卷簧(411)设在反射镜(410)的两端,且第一卷簧(411)的另一端与第二伸缩罩(409)相连接。

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权利要求:

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