龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日：2023-01-04
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118291961A
主分类号：C23C22/73
分类号：C23C22/73;H01L33/44;H01L33/00;H01L33/06;C25D13/02
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本申请提供一种钝化膜沉积方法、装置以及发光二极管，该方法包括：提供一沉积装置，其中，所述沉积装置包括一反应腔室，所述反应腔室中容置有含硅源反应溶液，且所述反应腔室中设有负极；将一待沉积器件置于所述反应腔室内，并将所述待沉积器件与所述沉积装置的正极连接；对所述负极和所述正极通电，以使所述含硅源反应溶液在电场的作用下发生缩聚反应，并在所述待沉积器件的待沉积表面形成硅源附着层；分解所述硅源附着层以在所述待沉积表面形成钝化膜。本申请可有效提高得到钝化膜的质量，保证待沉积器件的光电性能。
主权项：1.一种钝化膜沉积方法，其特征在于，包括：提供一沉积装置，其中，所述沉积装置包括一反应腔室，所述反应腔室中容置有含硅源反应溶液，且所述反应腔室中设有负极；将一待沉积器件置于所述反应腔室内，并将所述待沉积器件与所述沉积装置的正极连接；对所述负极和所述正极通电，以使所述含硅源反应溶液在电场的作用下发生缩聚反应，并在所述待沉积器件的待沉积表面形成硅源附着层；分解所述硅源附着层以在所述待沉积表面形成钝化膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 重庆康佳光电技术研究院有限公司 一种钝化膜沉积方法、装置以及发光器件
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号