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申请/专利权人：奥恒科技股份有限公司
摘要：本实用新型公开一种气体喷头及薄膜沉积装置。该气体喷头包括：一通气板体，具有一第一面以及与第一面相对的一第二面，通气板体包括两个输气管，两个输气管相互涡卷，且形成一涡卷的沟槽，每个输气管的一端具有一进气孔，进气孔对应位于通气板体的外缘；以及多个喷气部，位于第二面的沟槽上，多个喷气部分别连通输气管，且相邻的喷气部具有一间距，每个喷气部具有一出气孔。该薄膜沉积装置包括：气体喷洒单元，用以提供反应气体；以及气体喷头，位于气体喷洒单元的下方。本实用新型可以限制反应气体以及控制反应气体在反应空间内的浓度，增加反应气体在反应空间的停滞时间，以提升反应气体利用率、均匀薄膜的厚度，提高镀膜率与降低生产成本。
主权项：1.一种气体喷头，其特征在于，所述气体喷头包括：一通气板体，具有一第一面以及与所述第一面相对的一第二面，所述通气板体包括两个输气管，两个所述输气管相互涡卷，且形成一涡卷的沟槽，每个所述输气管的一端具有一进气孔，所述进气孔对应位于所述通气板体的外缘；以及多个喷气部，位于所述第二面的所述沟槽上，所述多个喷气部分别连通所述输气管，且相邻的所述喷气部具有一间距，每个所述喷气部具有一出气孔。
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百度查询： 奥恒科技股份有限公司 气体喷头及薄膜沉积装置
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