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电极调谐、沉积与蚀刻方法 

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申请/专利权人:应用材料公司

摘要:提供一种在半导体基板之上形成特征的方法。所述方法包括以连续的流率在基板表面之上供应气体混合物。第一射频RF信号被输送至电极,同时以连续的流率供应气体混合物,以在基板表面之上沉积聚合物层。基板表面包括含氧化物部分及含氮化物部分。第二RF信号被输送至电极,同时以连续的流率连续地供应气体混合物,以相对于含氮化物部分选择性地蚀刻含氧化物部分。

主权项:1.一种在半导体基板之上形成特征的方法,包含以下步骤:以连续的流率在基板的表面之上供应气体混合物;将第一射频RF信号输送至电极,同时以连续的流率供应所述气体混合物,以在所述基板的所述表面之上沉积聚合物层,其中所述基板的所述表面包含含氧化物部分和含氮化物部分;和将第二RF信号输送至所述电极,同时以所述连续的流率连续地供应所述气体混合物,以相对于所述含氮化物部分选择性地蚀刻所述含氧化物部分。

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权利要求:

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