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申请/专利权人：万华化学集团股份有限公司
申请日：2023-01-03
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118295208A
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本发明提供一种化学放大型光致抗蚀剂及其制备方法和应用。化学放大型光致抗蚀剂包括：五元共聚物、含有羧基或和羟基的小分子物质、光致产酸剂、有机溶剂；其中，所述五元共聚物由五种共聚单体通过共聚反应制得，所述五种共聚单体为三种含有酸易变基团保护结构的化合物，以及烷基或含卤元素类基团取代或未取代的对羟基苯乙烯和烷基或含卤元素类基团取代或未取代的苯乙烯的组合物。本发明抗蚀剂，能够有效改善图形缺陷，满足光刻的工艺窗口及OPC光学修正的要求，特别适用于高能辐射束，适合用于在集成电路中形成微米级或纳米级的图案或应用于光电产品等领域。
主权项：1.一种化学放大型光致抗蚀剂，其特征在于，质量百分含量组成包括：五元共聚物5～50％，优选10～25％；含有羧基或和羟基的小分子物质0.1～10％，优选0.2～2％；光致产酸剂0.1～10％，优选0.5～5％；有机溶剂30～95％，优选75～90％；其中，所述五元共聚物由五种共聚单体通过共聚反应制得，所述五种共聚单体为三种含有酸易变基团保护结构的化合物，以及烷基或含卤元素类基团取代或未取代的对羟基苯乙烯和烷基或含卤元素类基团取代或未取代的苯乙烯的组合物。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 万华化学集团股份有限公司 一种化学放大型光致抗蚀剂及其制备方法和应用
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