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聚合物及光致抗蚀剂组合物 

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申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限责任公司

摘要:公开了一种包含以下的聚合物:第一重复单元,其衍生自包含羟基‑芳基的单体;第二重复单元,其衍生自包含用缩醛或缩酮基团保护的羟基‑芳基的单体;第三重复单元,其衍生自包含脂环族基团的甲基丙烯酸酯单体;以及第四重复单元,其衍生自包含酸敏感基团的单体,其中所述第一重复单元、所述第二重复单元、所述第三重复单元以及所述第四重复单元彼此不同。

主权项:1.一种聚合物,其包含:第一重复单元,其包含羟基-芳基的单体;第二重复单元,其衍生自包含用缩醛或缩酮基团保护的羟基-芳基的单体;第三重复单元,其衍生自包含脂环族基团的甲基丙烯酸酯单体;以及第四重复单元,其衍生自包含酸敏感基团的单体,其中所述第一重复单元、所述第二重复单元、所述第三重复单元以及所述第四重复单元彼此不同,以及其中,所述第三重复单元衍生自具有式3的单体: 其中,Rc是氢、氟、取代或未取代的C1-5烷基、或取代或未取代的C1-5氟烷基,R4是单环或多环的C3-30环烷基,其是未取代的或取代的,前提是R4不包括直接键合至羧酸酯基团的二价氧原子的叔碳原子,以及其中,所述第一重复单是式1;所述第二重复单元衍生自具有式2的单体;并且所述第四重复单元衍生自具有式4a或4b的单体: 其中,在式1’、2、4a和4b中,Ra、Rb和Rd各自独立地是氢、氟、取代或未取代的C1-5烷基、或取代或未取代的C1-5氟烷基;R1、R2和R8各自独立地是氢、直链或支链的C1-20烷基、直链或支链的C1-20杂烷基、单环或多环的C3-20环烷基、单环或多环的C3-20杂环烷基、单环或多环的C6-20芳基、C7-20芳氧基烷基、或单环或多环的C4-20杂芳基,其中的每一个是取代或未取代的;并且任选地,R1、R2和R8中的任何两个一起形成单环,或R1、R2和R8一起形成多环;R3是取代或未取代的直链或支链的C1-20烷基、取代或未取代的单环或多环的C3-20环烷基、取代或未取代的单环或多环的C3-20杂环烷基、取代或未取代的C6-14芳基、取代或未取代的C3-14杂芳基、取代或未取代的C7-18芳基烷基、取代或未取代的C4-18杂芳基烷基、或取代或未取代的C1-12杂烷基;R9是氢、取代或未取代的直链或支链的C1-20烷基、取代或未取代的单环或多环的C3-20环烷基、取代或未取代的单环或多环的C3-20杂环烷基、取代或未取代的C6-14芳基、取代或未取代的C3-14杂芳基、取代或未取代的C7-18芳基烷基、取代或未取代的C4-18杂芳基烷基、或取代或未取代的C1-12杂烷基;任选地,R1、R2或R8之一和R3或R9之一一起形成环;L是包含至少一个碳原子和至少一个杂原子的连接单元;R5、R6和R7各自独立地是直链或支链的C1-20烷基、单环或多环的C3-20环烷基、单环或多环的C3-20杂环烷基、直链或支链的C2-20烯基、单环或多环的C3-20环烯基、单环或多环的C3-20杂环烯基、单环或多环的C6-20芳基、或单环或多环的C4-20杂芳基,其中的每一个是取代或未取代的,并且R5、R6和R7中的任何两个任选地一起形成环;每个A独立地是卤素、羟基、羧酸或酯、巯基、直链或支链的C1-20烷基、单环或多环的C3-20环烷基、单环或多环的C3-20氟环烯基、单环或多环的C3-20杂环烷基、单环或多环的C6-20芳基、或单环或多环的C4-20杂芳基,其中的每一个是取代或未取代的;并且每个m独立地是0至4的整数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗门哈斯电子材料有限责任公司 聚合物及光致抗蚀剂组合物

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