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申请/专利权人：联华电子股份有限公司
申请日：2022-12-26
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259535A
主分类号：G03F1/36
分类号：G03F1/36;G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明公开一种形成布局图案的方法及光掩膜，其中该方法包括提供布局图案至计算机系统。布局图案包括：第一图案、第二图案以及第三图案。第二图案的线端与第三图案的线端相连所定义出的中心线与第一图案的中间部分重叠。对布局图案进行光学邻近修正运算，以在第二图案的线端上形成第一辅助图案，并在第三图案的线端上形成第二辅助图案。第一辅助图案包括：第一条状图案从第二图案的线端沿着第一方向延伸；以及第二条状图案从第二图案的线端沿着第一方向延伸且与第一条状图案在第二方向上彼此分隔并不接触。第二条状图案比第一条状图案靠近第一图案且第二条状图案的延伸长度小于第一条状图案的延伸长度。
主权项：1.一种形成布局图案的方法，其特征在于，包括：提供布局图案至计算机系统，其中所述布局图案包括：第一图案，具有相对的第一侧与第二侧；第二图案，配置在所述第一图案的所述第一侧处；以及第三图案，配置在所述第一图案的所述第二侧处，其中所述第二图案的线端与所述第三图案的线端相连所定义出的中心线与所述第一图案的中间部分重叠；对所述布局图案进行光学邻近修正运算，以在所述第二图案的所述线端上形成第一辅助图案，并在所述第三图案的所述线端上形成第二辅助图案，其中所述第一辅助图案包括：第一条状图案，从所述第二图案的所述线端沿着第一方向延伸；以及第二条状图案，从所述第二图案的所述线端沿着所述第一方向延伸，且与所述第一条状图案在第二方向上彼此分隔并不接触，其中所述第二条状图案比所述第一条状图案靠近所述第一图案，且所述第二条状图案的延伸长度小于所述第一条状图案的延伸长度；以及由所述计算机系统输出所述布局图案、所述第一辅助图案以及所述第二辅助图案至光掩膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 联华电子股份有限公司 形成布局图案的方法及光掩膜
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