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抗蚀剂组成物及图案形成方法 

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2023-12-25

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118259547A

主分类号:G03F7/004

分类号:G03F7/004

优先权:["20221226 JP 2022-208497"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题提供于使用高能射线的光学光刻中,感度及分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物,及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂组成物,包含下式1表示的超价碘化合物、含羧基的聚合物及溶剂,式中,n是0~5的整数,R1及R2各自独立地为卤素原子、或也可含有杂原子的碳数1~10的烃基,又,R1及R2亦可互相键结并和它们所键结的碳原子及该碳原子间的原子一起形成环,R3是卤素原子、或也可含有杂原子的碳数1~40的烃基。

主权项:1.一种抗蚀剂组成物,包含下式1表示的超价碘化合物、含羧基的聚合物及溶剂, 式中,n是0~5的整数,R1及R2各自独立地为卤素原子、或也可含有杂原子的碳数1~10的烃基,又,R1及R2亦可互相键结并和它们所键结的碳原子及该碳原子间的原子一起形成环,R3是卤素原子、或也可含有杂原子的碳数1~40的烃基。

全文数据:

权利要求:

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