恭喜联芯集成电路制造(厦门)有限公司马志超获国家专利权
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龙图腾网恭喜联芯集成电路制造(厦门)有限公司申请的专利具有静电去除装置的半导体制作工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112397412B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910747813.X，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权具有静电去除装置的半导体制作工艺设备是由马志超;林国豪;谈文毅设计研发完成，并于2019-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有静电去除装置的半导体制作工艺设备在说明书摘要公布了：本发明公开一种具有静电去除装置的半导体制作工艺设备，其中该半导体制作工艺设备包括一液体处理制作工艺单元以及一空气气流系统。该液体处理制作工艺单元包括一承载台用于托持一晶片、一旋转机构与该承载台连接、一液体分配器用于将一液体分配至设置在该承载台上的晶片的表面上。该空气气流系统用于在该液体处理制作工艺单元中产生一空气气流直接吹拂设置在该承载台上的该晶片的该表面。一离子产生器，整合在该空气气流系统中，用于提供离子至该空气气流中。
本发明授权具有静电去除装置的半导体制作工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体制作工艺设备，其特征在于，包括:液体处理制作工艺单元，包括:底座；承载台，设置在该液体处理制作工艺单元的下部，且位于该底座上，用于在液体处理制作工艺期间水平的托持晶片，且用于在清洗制作工艺期间支撑清洗盘，其中该清洗盘包括金属或有机导电材料，可于该半导体制作工艺设备的传送臂接触该清洗盘时清除该传送臂上的静电荷；旋转机构，位于该底座与该承载台之间，连接该承载台，用于使该承载台围绕旋转轴旋转；以及液体分配器，用于将液体分配至设置在该承载台上的该晶片的表面上；空气气流系统，用于在该液体处理制作工艺单元中产生空气气流，该空气气流直接吹拂设置在该承载台上的该晶片的该表面；以及离子产生器，整合在该空气气流系统中，用于提供离子至该空气气流中。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人联芯集成电路制造(厦门)有限公司，其通讯地址为：361000 福建省厦门市翔安区万家春路八九九号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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