恭喜万华化学集团股份有限公司俞勇获国家专利权
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龙图腾网恭喜万华化学集团股份有限公司申请的专利一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116023627B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111247733.1，技术领域涉及：C08G18/75；该发明授权一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用是由俞勇;俞涛;王腾飞;崔学磊;张翼强;尚永华;李建峰;韩金平;黎源;刘德刚设计研发完成，并于2021-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用，所述二环己基甲烷二胺二异氰酸酯中同时含有2,4’‑二环己基甲烷二异氰酸酯2,4’‑HMDI和4,4’‑二环己基甲烷二异氰酸酯4,4’‑HMDI；其中，所述2,4’‑二环己基甲烷二异氰酸酯的含量占比为2～20wt％；所述4,4’‑二环己基甲烷二异氰酸酯中的反,反’‑二环己基甲烷二异氰酸酯含量为5～30％。采用本发明提供的HMDI制作的光固化组合物具备黏度低、单层固化时间更短、打印效率高、打印样品柔韧性好等优点。
本发明授权一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用在权利要求书中公布了：1.一种二环己基甲烷二氰酸酯组合物，其特征在于，所述二环己基甲烷二氰酸酯组合物中同时含有异构体2,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯和4,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯；其中，所述2,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯的含量占比为2～20wt%；所述4,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯包括顺,顺’-二环己基甲烷二异氰酸酯、顺,反’-二环己基甲烷二异氰酸酯、反,反’-二环己基甲烷二异氰酸酯三种异构体，以二环己基甲烷二氰酸酯组合物质量为100%计，其中反,反’-二环己基甲烷二异氰酸酯含量为5～30%。
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