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龙图腾网恭喜洛佩诗公司申请的专利用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114729453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080081390.3，技术领域涉及：C23C16/458；该发明授权用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器是由西尔维奥·佩雷蒂;毛里利奥·梅斯基亚设计研发完成，并于2020-11-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器在说明书摘要公布了：一种用于在外延反应器的反应室中支撑基底的装置420；装置420包括：盘形元件422，其具有第一面422A和第二面422B，第一面422A适于在使用装置420时向上定位，第二面422B适于在使用装置420时向下定位，所述盘形元件422适于接收气流F以使装置420绕其轴线X旋转；基底支撑元件424，其与所述盘形元件422成单件并且优选地邻近所述第一面422A；以及轴426，其与所述盘形元件422同轴，与所述盘形元件422成单件并且具有在所述第二面422B处的第一端426A，所述轴426在其第二端426B处具有至少一个突出部428A、428B、428C，突出部428A、428B、428C的旋转适于由高温计430或热像仪检测。

本发明授权用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器在权利要求书中公布了：1.一种用于外延反应器的反应室1，包括：感受器元件3，所述感受器元件3具有圆区段形状的截面，所述感受器元件3由平面板坯31、弯曲板坯32、以及位于所述平面板坯31和弯曲板坯32之间的通孔30构成；用于在所述反应室1中支撑基底的装置420，所述装置420包括：盘形元件422，所述盘形元件422具有第一面422A和第二面422B，所述第一面422A适于在使用所述装置420时向上定位，所述第二面422B适于在使用所述装置420时向下定位，所述盘形元件422适于接收气流F以使所述装置420绕其轴线X旋转，并且能够旋转地容纳在所述平面板坯31的座中，所述座具有被所述装置420的轴426横穿的通孔；基底支撑元件424，所述基底支撑元件424与所述盘形元件422成单件且邻近所述第一面422A；所述轴426，所述轴426与所述盘形元件422同轴，与所述盘形元件422成单件并且具有在所述第二面422B处的第一端426A；高温计430或热像仪；其中，所述轴426在其第二端426B处具有至少一个突出部428A、428B、428C，所述突出部的旋转适于由所述高温计430或所述热像仪检测，所述至少一个突出部428A、428B、428C位于所述通孔30中；并且其中，所述平面板坯31具有适于让气流F流动以旋转所述装置420的内部管道416。

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