恭喜应用材料公司;新加坡国立大学维克内什·萨穆加纳坦获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司;新加坡国立大学申请的专利沉积低粗糙度金刚石膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114901858B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180003449.1，技术领域涉及：C23C16/27；该发明授权沉积低粗糙度金刚石膜是由维克内什·萨穆加纳坦;陈仲欣;谷继腾;埃斯瓦拉南德·文卡塔苏布拉曼尼亚;罗建平;阿布海杰特·巴苏·马利克;约翰·苏迪约诺设计研发完成，并于2021-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积低粗糙度金刚石膜在说明书摘要公布了：描述了沉积金刚石层的方法，该方法可用于集成电路的制造。方法包括处理基板，其中纳米晶金刚石沉积在基板上，其中处理方法产生具有高硬度的纳米晶金刚石硬掩模。
本发明授权沉积低粗糙度金刚石膜在权利要求书中公布了：1.一种在基板上的多个堆叠器件层上沉积纳米晶金刚石硬掩模层的方法，所述方法包括：在基板处理腔室中的气体混合物中产生脉冲微波等离子体，所述气体混合物包括包含H2的第一气体、包含CO2的第二气体、选自由CH4、C2H2和C2H4组成的组中的第三气体以及包含惰性气体的第四气体；和在所述多个堆叠的器件层上沉积所述纳米晶金刚石硬掩模层，所述纳米晶金刚石硬掩模层具有厚度、粗糙度、硬度和杨氏模量，其中所述脉冲微波等离子体在从10Hz至300Hz范围内的频率下，在从2,000W至12,000W范围内的峰值功率的从10％至90％的范围内进行脉冲，并且所述纳米晶金刚石硬掩模层的所述粗糙度小于10nmrms，所述纳米晶金刚石硬掩模层的所述杨氏模量大于325GPa，其中所述气体混合物包含从30体积％至70体积％的范围内的H2、合计从4体积％至6体积％的范围内的所述第二气体和所述第三气体，以及从30体积％到70体积％的范围内的氩气，所述基板处理腔室中的所述气体混合物在从0.2托至0.8托的范围内的压力下。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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