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摘要:本发明公开了一种硅异质结太阳电池非晶硅钝化层的制备方法,包括如下步骤:a、向载有硅片的反应腔室内通入二氧化碳气体,沉积形成氧化硅钝化层;b、形成氧化硅钝化层后,向所述反应腔室内通入硅烷气体,沉积第一本征非晶硅薄膜;c、第一本征非晶硅薄膜形成后,向所述反应腔室内通入硅烷和氢气的混合气体,沉积第二本征非晶硅薄膜。本发明的方法能够在抑制外延的基础上降低对衬底表面的损伤,降低界面载流子复合,提高钝化效果,提高了电池开路电压和转换效率。
主权项:1.一种硅异质结太阳电池非晶硅钝化层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:a、向载有硅片的反应腔室内通入二氧化碳气体,沉积形成氧化硅钝化层,其中,所述沉积功率为10-40mWcm2,沉积时间为1-10s,所述二氧化碳气体的流量为1000-5000sccm;b、形成氧化硅钝化层后,向所述反应腔室内通入硅烷气体和氢气,沉积第一本征非晶硅薄膜,其中,所述氢气与所述硅烷气体流量比为0.1-0.5;c、第一本征非晶硅薄膜形成后,向所述反应腔室内通入硅烷和氢气的混合气体,沉积第二本征非晶硅薄膜,其中,所述沉积功率为15-35mWcm2,所述氢气与硅烷流量比为2~25。
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