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摘要：本发明的基片处理装置包括第一基片保持部、杯状体、处理液供给部和处理槽。上述第一基片保持部对基片的下表面中心部进行吸附而水平地保持上述基片。上述杯状体是在上下两个方向开放的环状，包围由上述第一基片保持部保持的上述基片的外周。上述处理液供给部对由上述杯状体包围的上述基片供给处理液。上述处理槽回收从上述杯状体下落的上述处理液。上述处理槽的内壁面具有侧面和底面，上述底面的至少一部分为亲水面。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：第一基片保持部，其吸附基片的下表面中心部而水平地保持所述基片；杯状体，其为在上下两个方向开放的环状，包围由所述第一基片保持部保持的所述基片的外周；处理液供给部，其对由所述杯状体包围的所述基片供给处理液；和处理槽，其回收从所述杯状体下落的所述处理液，所述处理槽的内壁面具有侧面和底面，所述底面的至少一部分为亲水面。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和基片处理方法
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