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一种密封垫片基材表面处理设备 

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摘要:本实用新型公开一种密封垫片基材表面处理设备,涉及机械表面处理技术领域,包括外框架,所述外框架顶端固定连接有连接支架,连接支架顶端固定连接有传导支架;所述外框架内侧固定安装有多个处理支架,每个处理支架内侧固定连接有旋转盘;所述旋转盘前端转动连接有旋转连接管,旋转连接管前端固定安装有旋转管;同时,本实用新型在使用时,通过通过采用气体液体共同清洁的方式为垫片基材提供处理,让垫片外侧能够彻底受到清洁,也能让顽固污渍在气体和液体的处理下得到去除,让气体和液体处理后的基材作为垫片处理后能够生产出较高质量的垫片,相较于现有技术的处理方式能够提高产品质量,延长使用寿命,降低使用成本。

主权项:1.一种密封垫片基材表面处理设备,包括外框架1,其特征在于,所述外框架1顶端固定连接有连接支架11,连接支架11顶端固定连接有传导支架12;所述外框架1内侧固定安装有多个处理支架2,每个处理支架2内侧固定连接有旋转盘3;所述旋转盘3前端转动连接有旋转连接管31,旋转连接管31前端固定安装有旋转管32;所述外框架1顶端滑动连接有移动支架4,移动支架4底端悬挂安装有垫片基材支架5。

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