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摘要：本发明提供一种用于中性束注入器束流反馈控制装置及其控制方法，包括主真空室、偏转磁体、中性化室、离子吞食器、低温系统、辅助真空系统、水冷循环系统、进气系统、束线支撑机构、离子源、电源系统、漂流管道、远程控制系统、束流传感器、束流闭环控制系统，偏转磁体、中性化室和离子吞食器均安装于主真空室内部，漂流管道安装于主真空室一侧表面，中性化室设置于偏转磁体一侧表面，中性化室一侧表面设有引出孔，引出孔的位置与离子源的位置相适应，进气系统的一端与离子源的一端连接。本发明将引出束流作为反馈量，离子源的弧电源作为控制量，通过改进后的闭环控制算法，逐步提高弧电源的功率设定值，进而提高弧流，实现引出束流的稳定控制。

主权项：1.一种用于中性束注入器束流反馈控制装置，其特征在于：包括主真空室（1）、偏转磁体（2）、中性化室（3）、离子吞食器（4）、低温系统（5）、辅助真空系统（6）、水冷循环系统（7）、进气系统（8）、束线支撑机构（9）、离子源（10）、电源系统（11）、漂流管道（12）、远程控制系统（13）、束流传感器、束流闭环控制系统、隔离传输系统以及弧电控制系统；其中，所述偏转磁体（2）、中性化室（3）和离子吞食器（4）均安装于所述主真空室（1）内部，所述漂流管道（12）安装于所述主真空室（1）一侧表面，所述中性化室（3）设置于偏转磁体（2）一侧表面，所述中性化室（3）一侧表面设有引出孔，所述引出孔的位置与离子源（10）的位置相适应，所述进气系统（8）的一端与离子源（10）的一端连接，所述离子吞食器（4）的位置与偏转磁体（2）的位置相适应，所述偏转磁体（2）作用于带电离子，使得带电离子被偏转从而被离子吞食器（4）进行吞食，所述辅助真空系统（6）安装于主真空室（1）一侧表面，所述低温系统（5）一端与主真空室（1）一侧表面连接，所述水冷循环系统（7）与主真空室（1）进行热交换，所述束线支撑机构（9）安装于主真空室（1）下表面，所述电源系统（11）为所述低温系统（5）、辅助真空系统（6）和水冷循环系统（7）提供电能，所述远程控制系统（13）分别与低温系统（5）、辅助真空系统（6）和水冷循环系统（7）电性连接，所述束流传感器与束流闭环控制系统电性连接，所述束流闭环控制系统与隔离传输系统通过线缆连接，所述弧电控制系统与隔离传输系统采用光纤通讯。

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百度查询： 中国科学院合肥物质科学研究院 一种用于中性束注入器束流反馈控制装置及其控制方法