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摘要：本发明提供一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统，包括：低电平控制系统，包括幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块，通过幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块这三个模块对矢量调制信号进行控制；功率源系统，其接收矢量调制信号，并提供功率信号；和高频腔系统，包括高频腔，所述高频腔为套设有多个磁合金环片的真空腔室管道；其中，通过对矢量调制信号进行控制，来根据粒子的回旋频率调节高频腔的谐振频率，使得质子和氦离子在每次经过高频腔时均能获得稳定的加速。本发明还提供相应的使用方法。本发明的系统在同一台的同步加速器内，同时具备同步加速质子和氦离子的功能。
主权项：1.一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统，其特征在于，包括：低电平控制系统，包括幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块，通过幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块这三个模块对矢量调制信号进行控制；功率源系统，其接收矢量调制信号，并提供功率信号；和高频腔系统，包括高频腔，所述高频腔为套设有多个磁合金环片的真空腔室管道；其中，通过对矢量调制信号进行控制，来根据粒子的回旋频率调节高频腔的谐振频率，使得质子和氦离子在每次经过高频腔时均能获得稳定的加速。
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百度查询： 中国科学院上海高等研究院 一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统及其使用方法
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