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摘要：提供了一种用于在低温下对晶片进行等离子体处理的装置。晶片支撑件适于在等离子体处理室内支撑晶片。气体源向等离子体处理室提供气体。冷却系统提供对晶片支撑件的冷却。一种组件包括放电等离子体烧结体，所述放电等离子体烧结体包含烧结粉末，所述烧结粉末包括以下至少一者：掺杂碳化硅粉末，其中掺杂剂是铝Al、钇Y、钨W、钽Ta、碳化钨WC、碳化钽TaC和铝硅碳化物AlSiC中的至少一者；或掺杂碳化物，其中所述碳化物是碳化硼B4C、WC或TaC中的至少一者，且其中掺杂剂是B、W、钼Mo、Al和Ta中的至少一者；或纯B4C、WC、TaC、W或Mo。
主权项：1.一种用于在低温下对晶片进行等离子体处理的装置，其包括：等离子体处理室；用于在所述等离子体处理室内支撑晶片的晶片支撑件；用于向所述等离子体处理室提供气体的气体源；用于冷却所述晶片支撑件的冷却系统；以及组件，其包括放电等离子体烧结体，所述放电等离子体烧结体包含烧结粉末，所述烧结粉末包括以下至少一者：掺杂碳化硅粉末，其中掺杂剂是铝Al、钇Y、钨W、钽Ta、碳化钨WC、碳化钽TaC和铝硅碳化物AlSiC中的至少一者；或掺杂碳化物，其中所述碳化物是碳化硼B4C、WC或TaC中的至少一者，且其中掺杂剂是B、W、钼Mo、Al和Ta中的至少一者；或纯B4C、WC、TaC、W或Mo。
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百度查询： 朗姆研究公司 用于低温等离子体处理室的放电等离子体烧结组件
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