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摘要：本发明公开了晶圆支撑机构以及晶圆处理腔室。晶圆支撑机构包括：加热盘、边缘环、第一组升降销、第二组升降销以及升降销支板；所述边缘环设置在所述加热盘的边缘外侧；第一组升降销周向设置在所述边缘环的底部，用于调节所述边缘环的高度，使得边缘环相对于所述加热盘独立上下移动；第二组升降销周向设置在所述加热盘的底部，所述升降销支板位于所述加热盘的下方，所述第二组升降销在所述升降销支板的带动下升降运动，用于承接晶圆的上下运动；第二组升降销与第一组升降销交错排布。
主权项：1.一种晶圆支撑机构，其特征在于，包括：加热盘、边缘环、第一组升降销、第二组升降销以及升降销支板；所述边缘环设置在所述加热盘的边缘外侧；第一组升降销周向设置在所述边缘环的底部，用于调节所述边缘环的高度，使得边缘环相对于所述加热盘独立上下移动；第二组升降销周向设置在所述加热盘的底部，所述升降销支板位于所述加热盘的下方，所述第二组升降销在所述升降销支板的带动下升降运动，用于承接晶圆的上下运动；第二组升降销与第一组升降销交错排布。
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