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摘要:本发明涉及电解铜箔加工技术领域,特别涉及一种附载体超薄铜箔的制备方法及附载体超薄铜箔。本发明提供的附载体超薄铜箔的制备方法,包括步骤:1对载体铜箔进行预处理;2将预处理后的载体铜箔浸入剥离层处理溶液中,进行一次电沉积制备铬碳铝合金剥离层,得到带合金剥离层的载体铜箔;3将带合金剥离层的载体铜箔浸入电镀铜溶液中,进行二次电沉积,得到附载体超薄铜箔。本发明的制备方法制得的附载体超薄铜箔,其剥离层的剥离力适中,易于超薄铜箔的稳定均匀的分离。
主权项:1.一种附载体超薄铜箔的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1对载体铜箔进行预处理;2将预处理后的载体铜箔浸入剥离层处理溶液中,进行一次电沉积制备铬碳铝合金剥离层,得到带合金剥离层的载体铜箔;3将带合金剥离层的载体铜箔浸入电镀铜溶液中,进行二次电沉积,得到附载体超薄铜箔。
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