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摘要：本发明提供了一种金纳米圆环阵列的制备方法，属于金纳米材料制备技术领域。本发明在衬底上表面涂敷光刻胶，然后依次进行曝光和显影，使光刻胶掩膜层形成由多个互不接触的圆形孔形成的圆形孔阵列；然后以原子层沉积的方式在光刻胶的上表面制备氧化铝膜，并通过去胶操作得到由氧化铝圆柱形成的氧化铝圆柱阵列；再以电子束蒸镀方式在氧化铝圆柱的顶端和侧壁以及衬底上表面制备金膜；通过垂直刻蚀去除每个氧化铝圆柱的顶端和衬底上表面的金膜，保留氧化铝圆柱的侧壁上的剩余金膜；通过湿法腐蚀去除氧化铝圆柱阵列，在衬底上表面得到由剩余金膜形成的金纳米圆环阵列。本发明提供的制备方法操作简单，生产成本低，制备效率高，能够进行大规模量产。
主权项：1.一种金纳米圆环阵列的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底上表面涂敷光刻胶，形成光刻胶掩膜层；对所述光刻胶掩膜层依次进行曝光和显影，使光刻胶掩膜层形成圆形孔阵列，得到光刻胶显影衬底；所述圆形孔阵列由多个互不接触的圆形孔形成，每个圆形孔内的底面裸露出衬底，且圆形孔外保留有光刻胶掩膜层；以原子层沉积的方式在所述光刻胶显影衬底的上表面制备氧化铝膜，去除剩余的所述光刻胶掩膜层和所述光刻胶掩膜层上表面的氧化铝膜，保留每个圆形孔内的氧化铝膜作为氧化铝圆柱，在衬底上表面得到由氧化铝圆柱形成的氧化铝圆柱阵列，相邻氧化铝圆柱之间裸露出衬底；以电子束蒸镀的方式在所述氧化铝圆柱的顶端和侧壁以及相邻氧化铝圆柱之间裸露的衬底上表面制备金膜，得到镀金衬底；通过垂直刻蚀去除所述镀金衬底上每个氧化铝圆柱的顶端和相邻氧化铝圆柱之间衬底上表面的金膜，保留氧化铝圆柱侧壁上的金膜；以湿法腐蚀的方式去除所述氧化铝圆柱阵列，在衬底上表面得到由剩余的金膜形成的金纳米圆环阵列。
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