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摘要：本发明提供了一种光掩模沉积修补工艺，包括：提供光掩模，光掩模上具有掩模图形，掩模图形的至少一侧具有修补区域；形成第一修补层沉积于修补区域；形成第二修补层沉积于第一修补层上；形成第三修补层沉积于第二修补层上，且部分第三修补层延伸至掩模图形的顶面。本发明能够提高沉积修补的工艺良率。
主权项：1.一种光掩模沉积修补工艺，其特征在于，包括：提供光掩模，所述光掩模上具有掩模图形，所述掩模图形的至少一侧具有修补区域；形成第一修补层沉积于所述修补区域；形成第二修补层沉积于所述第一修补层上；形成第三修补层沉积于所述第二修补层上，且部分所述第三修补层延伸至所述掩模图形的顶面。
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百度查询： 合光光掩模科技(安徽)有限公司 光掩模沉积修补工艺
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