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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供使用高能射线的光学光刻中，感度、分辨度及LWR优良的抗蚀剂组成物，以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂组成物，包含下式1表示的锡化合物及有机溶剂，式中，R1A～R10A及R1B～R10B各自独立地为碳数1～20的烃基，R11～R14各自独立地为氢原子或碳数1～20的烃基，La1及La2各自独立地为连接基团。
主权项：1.一种抗蚀剂组成物，包含下式1表示的锡化合物及有机溶剂， 式中，R1A～R10A及R1B～R10B各自独立地为碳数1～20的烃基，R11～R14各自独立地为氢原子或碳数1～20的烃基，La1及La2各自独立地为连接基团。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 抗蚀剂组成物及图案形成方法
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