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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种可改善图案形成时的矩形性，且可获得LER、分辨度、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：A淬灭剂，含有下式A表示的鎓盐，及B基础聚合物，含有含下式B1表示的重复单元的聚合物。
主权项：1.一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：A淬灭剂，含有下式A表示的鎓盐，及B基础聚合物，含有含下式B1表示的重复单元的聚合物； 式中，n1为0～6的整数；n2为0～3的整数；n3为1～4的整数；W为也可含有杂原子的碳数2～20的含氮原子的脂肪族杂环；LA及LB分别独立地为单键、醚键、酯键、酰胺键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；XL为单键或也可含有杂原子的碳数1～40的亚烃基；R1为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；n1≥2时，多个R1也可互相键结并和它们所键结的W上的碳原子一起形成环；Q1～Q4分别独立地为氢原子、氟原子、碳数1～6的烃基或碳数1～6的氟化烃基；但，Q1～Q4中的至少1个为氟原子或碳数1～6的氟化烃基；又，Q3与Q4也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环；RAL为酸不稳定基团；Z+为鎓阳离子； 式中，a1为0或1；a2为0～2的整数；a3为符合0≤a3≤5+2a2-a4的整数；a4为1～3的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R11为卤素原子、也可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、也可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基氧基或也可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃基羰基氧基；A1为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，且该饱和亚烃基的-CH2-也可被-O-取代。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
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