龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供：可改善图案形成时的矩形性，且可获得LER、分辨性、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含：A包含下式A表示的鎓盐的淬灭剂；及B包含含有下式B1表示的重复单元，且会因为酸的作用而分解，在碱显影液中的溶解度会增大的聚合物的基础聚合物。
主权项：1.一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含：A包含下式A表示的鎓盐的淬灭剂；及B包含含有下式B1表示的重复单元，且会因为酸的作用而分解，在碱显影液中的溶解度会增大的聚合物的基础聚合物； 式中，n1为0或1的整数；n2为0～6的整数；n3为0～3的整数；n4为0～4的整数；W为亦可含有杂原子的碳数2～20的含氮原子的脂肪族杂环；LA及LB各自独立地为单键、醚键、酯键、酰胺键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；XL为单键、或亦可含有杂原子的碳数1～40的亚烃基；R1为亦可含有杂原子的碳数1～20的烃基；n2≥2时，多个R1亦可互相键结而与它们键结的W上的碳原子一起形成环；R2为卤素原子、或亦可含有杂原子的碳数1～20的烃基；n4≥2时，多个R2亦可互相键结而与它们键结的芳香环上的碳原子一起形成环；RAL为酸不稳定基团；Z+为鎓阳离子； 式中，a1为0或1；a2为0～2的整数；a3为满足0≤a3≤5+2a2-a4的整数；a4为1～3的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R11为卤素原子、亦可经卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、亦可经卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃氧基或亦可经卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃羰氧基；A1为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，且该饱和亚烃基的-CH2-亦可被-O-取代。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号