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申请/专利权人：理工清科(重庆)先进材料研究院有限公司
摘要：本发明涉及气体分离膜材料技术领域，尤其涉及COF‑56FBD混合基质膜及其制备方法与应用。COF‑56FBD混合基质膜包括6FBD聚合物和分散在6FBD聚合物中的COF‑5，COF‑5的用量为6FBD聚合物的5wt％～20wt％。本发明利用COF‑5超高的比表面积和独特的孔隙结构，以及良好的相容性，优化混合基质膜对He的选择性，同时COF‑5和6FBD两种不同通量和选择性材料的使用，设计出了性能更好的气体分离膜，即COF‑56FBD混合基质膜，显著提升了氦气通量和氦气选择性。
主权项：1.COF-56FBD混合基质膜，其特征在于，包括6FBD聚合物和分散在6FBD聚合物中的COF-5，所述COF-5的用量为6FBD聚合物的5wt％～20wt％。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 理工清科(重庆)先进材料研究院有限公司 COF-5/6FBD混合基质膜及其制备方法与应用
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