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申请/专利权人:江苏微导纳米科技股份有限公司
摘要:本发明提供了一种卷绕式处理设备,包括放卷装置、镀膜装置和收卷装置。所述镀膜装置包括镀膜导向部和下喷淋部,所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方,配置为朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体,使得所述下喷淋部向所述第二表面提供工艺气体的过程中即使产生颗粒,绝大部分颗粒也会因重力作用落下而不会聚集在所述第二表面,从而防止颗粒污染;所述下喷淋部配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置,有利于确保镀膜均匀性。
主权项:1.一种卷绕式处理设备,其特征在于,包括:放卷装置,配置为引导柔性基材卷进行放卷并进入镀膜装置内;所述镀膜装置,包括镀膜导向部和下喷淋部;所述镀膜导向部配置为与放卷后的所述柔性基材的第一表面滑动接触以引导放卷后的所述柔性基材朝向收卷装置运动;所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方,配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置,并朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体,所述第二表面与所述第一表面相对设置;所述收卷装置,配置为引导由所述镀膜导向部导出的所述柔性基材实现收卷;所述下喷淋部包括若干下喷淋板,相邻所述下喷淋板相互倾斜设置,各所述下喷淋板配置为平行于所述第二表面设置;还包括分别设置于相邻所述下喷淋板之间的若干下气帘装置,以在相邻所述下喷淋板之间形成隔离气幕;还包括与若干所述下喷淋板对应设置的若干气托装置,各所述气托装置配置为向所述第一表面供气;所述气托装置与对应的所述下喷淋板相互平行设置。
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