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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法，提供一种在搬送表面形成有液膜的晶圆时能够抑制搬送时间混乱的技术。一个方式的基板处理装置具备多个第一处理部、多个第二处理部、搬送部以及控制部。多个第一处理部对基板实施第一处理。多个第二处理部对被实施了第一处理的基板实施第二处理。搬送部供多个第一处理部和多个第二处理部共同使用，向多个第一处理部和多个第二处理部搬送基板。控制部控制多个第一处理部、多个第二处理部以及搬送部。控制部控制向第一处理部搬送基板的第一搬送处理的开始定时，以使在进行第一处理之后从第一处理部向第二处理部搬送形成有液膜的基板的第二搬送处理的定时不与利用搬送部搬送其它基板的定时重叠。
主权项：1.一种基板处理装置，具备：多个第一处理部，所述多个第一处理部用于对基板实施第一处理；多个第二处理部，所述多个第二处理部用于对被实施了所述第一处理的所述基板实施第二处理；搬送部，其供所述多个第一处理部和所述多个第二处理部共同使用，用于向所述多个第一处理部和所述多个第二处理部搬送所述基板；以及控制部，其控制所述多个第一处理部、所述多个第二处理部以及所述搬送部，其中，所述控制部控制向所述第一处理部搬送所述基板的第一搬送处理的开始定时以及在所述第一处理之后从所述第一处理部向所述第二处理部搬送形成有液膜的所述基板的第二搬送处理的定时，所述控制部将所述基板的所述第一搬送处理的开始定时设定为所述基板的所述第一搬送处理和所述第二搬送处理的定时均不与利用所述搬送部搬送其它的所述基板的定时重叠的最早的定时。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法
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