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一种3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜的打标方法及其应用 

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申请/专利权人:山东天岳先进科技股份有限公司

摘要:本申请公开了一种3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的打标方法及其应用,属于3C‑SiC材料加工技术领域。该打标方法包括步骤:1将带有定位边的3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜固定;2沿3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的定位边方向,在3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的径向进行打标形成第一标记;3沿与3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的定位边呈30°夹角的方向,在3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的径向进行打标形成第二标记。该方法以3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的定位边为主,沿定位边方向形成的第一标记对应于3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的[11‑2]晶向,第二标记对应于3C‑SiC晶片或3C‑SiC薄膜的[01‑1]晶向或[10‑1]晶向,两个特征晶向的标定有利于研发生产工作的进行,也有利于批量器件生产过程中的定位。

主权项:1.一种3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜的打标方法,其特征在于,包括下述步骤:1将带有定位边的3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜固定;2沿3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜的定位边方向,在3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜的径向进行打标形成第一标记;3沿与3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜的定位边呈30°夹角的方向,在3C-SiC晶片或3C-SiC薄膜的径向进行打标形成第二标记。

全文数据:

权利要求:

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