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申请/专利权人：浙江海纳半导体股份有限公司
摘要：本发明涉及半导体单晶硅片衬底制造技术领域，具体地说，涉及一种具有取向结构的硅片研磨砂浆及其制备方法。该研磨砂浆由研磨颗粒、研磨液、去离子水组成，研磨颗粒由α相微米级氧化铝α‑Al2O3和气相纳米氧化铝F‑Al2O3组成，研磨液由纤维素纳米晶、黄原胶、乙二胺、三乙醇胺组成；研磨砂浆中各组分的质量分数为，α‑Al2O3：5％～20％，F‑Al2O3：1％～5％，纤维素纳米晶：3％～15％，黄原胶：1％～5％，乙二胺：0.2％～2％，三乙醇胺：3％～12％，余量为去离子水。本发明设计通过使用棒状纤维素纳米晶和黄原胶作为分散剂巧妙平衡了储存稳定性和使用流动性的问题；通过不同尺寸的研磨颗粒并用提高了研磨去除效率，通过研磨液的取向结构改善研磨表面的平整度和研磨过程中的温度分布，可以高效地研磨加工单晶硅片。
主权项：1.一种具有取向结构的硅片研磨砂浆，其特征在于：该研磨砂浆由研磨颗粒、研磨液、去离子水组成，研磨颗粒由α相微米级氧化铝α-Al2O3和气相纳米氧化铝F-Al2O3组成，研磨液由纤维素纳米晶、黄原胶、乙二胺、三乙醇胺组成。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江海纳半导体股份有限公司 一种具有取向结构的硅片研磨砂浆及其制备方法
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