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申请/专利权人：半导体科技全球有限公司
摘要：本发明涉及与在内部收容光刻胶水溶液的收容容器的开口部分相结合来密封内部并向外部排出上述光刻胶水溶液的盖装置，包括：引导模块，与收容容器的上端部相结合，设置有按预设角度向上倾斜并突出的倾斜突出单元，并形成有使收容空间的内外部连通的连通口；排出模块，延伸形成为管道形态，使得长度方向上的一侧贯通连通口并配置于收容容器的内部，另一侧向外部露出并形成排出口；以及固定模块，以使排出模块的另一侧一部分贯通的状态与倾斜突出单元固定结合，以朝向引导模块对排出模块施加压力的方式形成，固定模块使得结合位置沿着倾斜突出单元的突出的长度方向被调节来调节排出模块的插入深度。
主权项：1.一种盖装置，与在内部收容光刻胶水溶液的收容容器的开口部分相结合来密封内部并向外部排出上述光刻胶水溶液，其特征在于，包括：引导模块，与上述收容容器的上端部相结合，设置有按预设角度向上倾斜并突出的倾斜突出单元，并形成有使上述收容空间的内外部连通的连通口；排出模块，延伸形成为管道形态，使得长度方向上的一侧贯通上述连通口并配置于上述收容容器的内部，另一侧向外部露出并形成排出口；以及固定模块，以使上述排出模块的另一侧一部分贯通的状态与上述倾斜突出单元固定结合，以朝向上述引导模块对上述排出模块施加压力的方式形成，上述固定模块使得结合位置沿着上述倾斜突出单元的突出的长度方向被调节来调节上述排出模块的插入深度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 半导体科技全球有限公司 可调节排出模块的插入深度的收容容器的盖装置
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