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晶圆承载装置、气相沉积机台及操作方法 

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申请/专利权人:湖北江城芯片中试服务有限公司

摘要:本公开实施例公开了一种晶圆承载装置、气相沉积机台及其操作方法,所述晶圆承载装置包括:晶圆承载台,包括用于承载晶圆的承载面;导气槽,嵌设于所述晶圆承载台中;所述导气槽的开口端与所述承载面平齐;升降部,对应于所述导气槽、且在所述导气槽内沿着第一方向升降;导气管,与所述导气槽连通;所述导气管用于所述导气槽的通气或排气。

主权项:1.一种晶圆承载装置,其特征在于,包括:晶圆承载台,包括用于承载晶圆的承载面;导气槽,嵌设于所述晶圆承载台中;所述导气槽的开口端与所述承载面平齐;升降部,对应于所述导气槽、且在所述导气槽内沿着第一方向升降;导气管,与所述导气槽连通;所述导气管用于所述导气槽的通气或排气。

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