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申请/专利权人：苏州鑫睿微电子设备有限公司

摘要：本发明提供一种由化学气相沉积工艺导致管道堵塞的清洁装置，涉及沉积设备清洁领域。该清洁由于化学气相沉积工艺导致其管道堵塞的清洁装置包括远程等离子发生器、导管和筒架：所述远程等离子发生器的出口端通过管道连接在气相沉积设备的管路上；所述筒架的一端和导管相连接，所述导管远离筒架的一端通过气路管通入远程等离子发生器的输出气体，所述筒架的另一端连接有硅胶头，所述筒架的外周转动连接有清洁组件，所述筒架的两端均设置有移动组件，所述筒架的内壁设置有动力组件，所述动力组件用于驱动移动组件和清洁组件，所述硅胶头内设置有导向控制组件。通过反应清洁和物理清洁相结合，同时进行清洁实现气相沉积设备管路有效清洁。

主权项：1.一种由化学气相沉积工艺导致管道堵塞的清洁装置，包括远程等离子发生器（37）、导管（1）和筒架（2），其特征在于：所述远程等离子发生器（37）的出口端通过管道连接在气相沉积设备的管路上，所述远程等离子发生器（37）的出口端管道上设置有连接支管（38），所述筒架（2）和导管（1）均设置在连接支管（38）内，所述远程等离子发生器（37）的入口端通过三通管连接有三个进气管（39）；所述筒架（2）的一端和导管（1）相连接，所述导管（1）远离筒架（2）的一端通过气路管通入远程等离子发生器（37）的输出气体，所述筒架（2）的另一端连接有硅胶头（6），所述筒架（2）内贯穿有清洁管件（3）且所述清洁管件（3）贯穿在导管（1）内，所述筒架（2）的外周转动连接有清洁组件（7），所述筒架（2）的两端均设置有移动组件（8），所述筒架（2）的内壁设置有动力组件（9），所述动力组件（9）用于驱动移动组件（8）和清洁组件（7），所述硅胶头（6）内设置有导向控制组件（24），所述导向控制组件（24）用于清洁装置在管道内的转向；所述清洁组件（7）包括有旋转套（10）、限位环（11）、换气孔（13）和刷毛（12），所述刷毛（12）均匀分布在旋转套（10）的外周，所述限位环（11）安装在旋转套（10）的两端，所述旋转套（10）转动连接在筒架（2）的外周，所述限位环（11）转动连接在筒架（2）侧壁内，所述换气孔（13）均匀分布在旋转套（10）和旋转套（10）内侧的筒架（2）上，所述旋转套（10）上的换气孔（13）和所述筒架（2）上的换气孔（13）一一对应；所述移动组件（8）均包括有第一软轴（14）和驱动杆（16），所述第一软轴（14）的两端固定连接在驱动杆（16）的两端，所述第一软轴（14）转动设置在筒架（2）两端的侧壁内，所述第一软轴（14）上均匀分布有橡胶轮（15），所述橡胶轮（15）均贯穿筒架（2），所述驱动杆（16）转动连接在筒架（2）内且所述筒架（2）在驱动杆（16）处设置有通槽。

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