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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：可引导UV光通过图案化窗以致使衬底的某些区域的选择性UV暴露。沉积于衬底上的应力可调膜由于选择性UV暴露而可进行局部应力变化。在应力可调膜中的局部应力变化可缓解衬底中的晶片弯曲。可将图案化窗设计为具有UV透明区和UV不透明区以有利于应力可调膜的标靶UV暴露。在一些实现方案中，图案化窗可包括用于选择性UV暴露的金属涂层、陶瓷盖、或金属盖。在一些实现方案中，图案化窗可进一步包括允许UV光的部分传输的过渡区以限制在应力可调膜的相应区域中的应力变化。
主权项：1.一种用于选择性UV暴露的装置，其包含：紫外线UV光源；处理室，其包含：衬底支撑件，其被配置成支撑半导体衬底，其中所述半导体衬底包含应力可调膜；以及一或更多个加热元件，其被配置成控制所述半导体衬底的温度；以及窗，其被定位在所述衬底支撑件与所述UV光源之间，其中所述窗被图案化为具有用于选择性地暴露所述应力可调膜的一或更多个第一区至UV光的一或更多个UV透明区以及用于为所述应力可调膜的一或更多个第二区选择性地阻挡UV光的一或更多个UV不透明区。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 通过图案化UV固化的晶片弯曲补偿
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