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申请/专利权人：上海芯东来半导体科技有限公司
摘要：本申请提供了一种基于康达效应的掩模台的导流装置以及光刻机，属于光刻机设备技术领域。针对如何进一步减少光刻机内部物镜表面的污染颗粒的问题，本申请提供了一种基于康达效应的掩模台的导流装置以及光刻机，包括多个导流板构成的导流组件以及连接导流组件的连接件。当气浴的气体流经透光口并朝向物镜方向移动时，导流装置能够利用康达效应原理，将气体按照导流装置的导流方向进行引导，使得气浴的气体可以全部离开物镜顶部，同时将物镜顶部的颗粒携带卷走，并避免形成气体涡轮；可以避免颗粒直接污染物镜表面，也避免了气体涡轮携带着颗粒污染物镜上方光路的空间。从而极大程度的保证了物镜和掩模台环境温度和洁净度的要求。
主权项：1.一种基于康达效应的掩模台的导流装置，所述掩模台设置有透光口以及设置于透光口边缘的支撑座，所述支撑座用于支撑固定掩模板，其特征在于，包括：用于设置于所述透光口边缘的第一连接件和第二连接件，且所述第一连接件和第二连接件沿第一方向相对设置；所述第一连接件的底面设置有第一导流板，所述第二连接件的底面设置有第二导流板，并使所述第一导流板和所述第二导流板在第一方向上相对设置；所述第一导流板朝向背离所述第二导流板的方向对气体进行导流，所述第二导流板朝向背离所述第一导流板的方向对气体进行导流；所述第一连接件和所述第二连接件的两端相接固定有第一侧导流板和第二侧导流板，并使得所述第一侧导流板和第二侧导流板，在第二方向上相对设置；且所述第一方向和所述第二方向垂直；所述第一侧导流板和所述第二侧导流板的导流面的两端均位于所述第一导流板和所述第二导流板之间。
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权利要求：
百度查询： 上海芯东来半导体科技有限公司 基于康达效应的掩模台的导流装置以及光刻机
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