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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明提供了一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法及系统，属于半导体领域。该基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法包括基于原始数据，获取不同季节对应的大气压力范围数据；基于大气压力范围数据，设定常压炉管生长栅极氧化层时，在不同季节的压力范围；获取大气压力的实时值，若大气压力的实时值超过设定的压力范围，则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数，重新调整工艺参数。本发明通过将低压炉管工艺测量的数据和FDC系统，应用于常压炉管生长栅极氧化层的工艺中，能够基于大气压力的变化，实时管控调整栅氧化层制造的工艺参数，避免在管控上存在滞后性，影响产品的栅极氧化层的膜厚。
主权项：1.一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法，所述常压炉管用于生长栅极氧化层，其特征在于，包括：基于原始数据，获取不同季节对应的大气压力范围数据；基于大气压力范围数据，设定常压炉管生长栅极氧化层时，在不同季节的压力范围；获取大气压力的实时值，若大气压力的实时值超过设定的压力范围，则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数，重新调整工艺参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法及系统
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