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申请/专利权人：日扬科技股份有限公司
摘要：本发明涉及一种经雷射表面处理之防沉积物件及其制造方法，其包含主体结构以及氟素镀膜层，其中氟素镀膜层覆盖于主体结构之雷射处理表面上，借以形成防沉积表面，其中主体结构之初始表面经过雷射进行雷射表面处理之步骤而成为具有复数个微结构之雷射处理表面。此防沉积物件于真空环境中接触制程设备进行制程时所使用或排放之制程物质，此防沉积物件之防沉积表面具有较高之接触角。本发明之经雷射表面处理之防沉积物件可防止真空部件受到微粒等制程物质撞击而刮伤，还可达到自清洁及易清洁之效果，借以减少频繁维修的资金和人力。
主权项：1.一种经雷射表面处理之防沉积物件，该防沉积物件于一真空环境中接触一制程设备进行一制程时所使用或排放之一制程物质，其特征在于，至少包含：一主体结构，其中该主体结构之至少一初始表面经由一雷射进行一雷射表面处理之步骤而成为具有复数个微结构之一雷射处理表面；以及一氟素镀膜层，该氟素镀膜层覆盖于该主体结构之该雷射处理表面之该复数个微结构上，借以作为该主体结构之一防沉积表面，其中该主体结构之该初始表面与该雷射处理表面为亲水性表面，该雷射处理表面之亲水性高于该初始表面之亲水性，且该防沉积表面为疏水性表面，借以使得该防沉积表面相较于该主体结构之该初始表面及该雷射处理表面对于该制程物质具有较高之一接触角。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日扬科技股份有限公司 经雷射表面处理之防沉积物件及其制造方法
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