买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:深圳国微芯科技有限公司
摘要:本发明公开了一种掩膜图形处理方法、系统、掩膜版、电子设备和介质,方法包括:提供目标图形;其中,目标图形通过调节第一初始图形和第二初始图形对应的尺寸参数所确定;利用目标函数对目标图形进行像素优化处理,以确定光罩图形,进而依据光罩图形确定掩膜图形;即本申请以要实现的的晶圆上的图形为目标图形,进行反向求解出掩膜图形,也即将对应的目标图形进行参数化处理,进而控制第一初始图形和第二初始图形之间的尺寸参数确定目标图形,并进行反向求解,以获取高精度的、高分辨率的掩膜图形,且降低了生产成本,提供了不同的思路,并保证了后续所形成的半导体器件的性能。
主权项:1.一种掩膜图形处理方法,其特征在于,包括:提供目标图形,其中,所述目标图形通过调节第一初始图形和第二初始图形对应的尺寸参数所确定;利用目标函数对所述目标图形进行像素优化处理,以确定光罩图形,进而依据光罩图形确定掩膜图形。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳国微芯科技有限公司 一种掩膜图形处理方法、系统、掩膜版、电子设备及介质
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。