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申请/专利权人：圣达电气有限公司
摘要：本发明公开了一种可调节抛光液分配量的铜箔抛光机，涉及铜箔抛光相关领域，包括抛光箱体，所述抛光箱体的左端外侧位置安装有输送辊，且所述输送辊的外侧放置有铜箔卷，所述铜箔卷的右端贯穿抛光箱体的内部，并且铜箔卷的右端与安装在抛光箱体右端外侧的收料辊一侧；还包括：所述抛光箱体的顶部位置安装有便于对灰尘吸取的吸尘组件，所述分配调节机构的右侧位置设置了匀平组件，通过匀平组件的来回移动实现对抛光液匀平处理该可调节抛光液分配量的铜箔抛光机，设置有分配调节机构，通过分配调节机构的配合设置可在面对不同尺寸的铜箔卷来下落出不同量的抛光液，进而可方便进行初步的化学抛光处理。
主权项：1.一种可调节抛光液分配量的铜箔抛光机，包括抛光箱体（1），所述抛光箱体（1）的左端外侧位置安装有输送辊（2），且所述输送辊（2）的外侧放置有铜箔卷（3），所述铜箔卷（3）的右端贯穿抛光箱体（1）的内部，并且铜箔卷（3）的右端与安装在抛光箱体（1）右端外侧的收料辊（4）一侧；其特征在于，还包括：所述抛光箱体（1）的顶部位置安装有便于对灰尘吸取的吸尘组件（5），所述吸尘组件（5）的输出端所连接的管道设置在抛光箱体（1）的内部底端位置；所述抛光箱体（1）的左侧背部位置安装有抛光液箱（6），所述抛光液箱（6）的输出端通过输液管（8）与下液件（9）的外端相连接，所述下液件（9）的内部设置了分配调节机构，通过分配调节机构的设置实现对铜箔卷（3）外侧所喷洒抛光液的量进行分配处理，所述分配调节机构的右侧位置设置了匀平组件（17），通过匀平组件（17）的来回移动实现对抛光液匀平处理；所述抛光箱体（1）的中端位置设置有若干组抛光组件（7）。
全文数据：
权利要求：
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