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申请/专利权人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
摘要：本发明涉及一种抛光液供应缓冲装置及其控制方法，所属硅片加工设备技术领域，包括抛光机，所述的抛光机外侧设有与抛光机相连通的抛光液进液管Ⅰ，所述的抛光液进液管Ⅰ与抛光机间设有缓冲储液桶，所述的缓冲储液桶与抛光机间设有三通连接件，所述的三通连接件上设有与三通连接件相管路连通的抛光液进液管Ⅱ，所述的三通连接件与缓冲储液桶间、三通连接件与抛光机间均设有过渡连接管。具有结构紧凑和运行稳定性好的优点。解决了抛光液使用量增大出现供应不足的问题。采用缓冲结构实现抛光液流量增加，从而保障抛光工艺的正常工作。
主权项：1.一种抛光液供应缓冲装置，包括抛光机（7），其特征在于：所述的抛光机（7）外侧设有与抛光机（7）相连通的抛光液进液管Ⅰ（1），所述的抛光液进液管Ⅰ（1）与抛光机（7）间设有缓冲储液桶（3），所述的缓冲储液桶（3）与抛光机（7）间设有三通连接件（5），所述的三通连接件（5）上设有与三通连接件（5）相管路连通的抛光液进液管Ⅱ（6），所述的三通连接件（5）与缓冲储液桶（3）间、三通连接件（5）与抛光机（7）间均设有过渡连接管（4）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 抛光液供应缓冲装置及其控制方法
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