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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要：本发明提供一种曝光系统及曝光方法，曝光系统包括光源和遮光装置，所述遮光装置位于所述光源下方且设置有对准工位和曝光工位；所述光源用于发射曝光光束；在所述遮光装置位于曝光工位时，所述遮光装置的遮光区用于遮挡掩膜版的对准区域；在所述遮光装置位于对准工位时，所述曝光光束仅照射所述掩膜版的对准区域。本发明可以解决对准时曝光区域的掩膜版图案被曝掉或者曝光时曝光场外的掩膜版图案被曝掉的问题。
主权项：1.一种曝光系统，其特征在于，包括光源和遮光装置，所述遮光装置位于所述光源下方且设置有对准工位和曝光工位；所述光源用于发射曝光光束；在所述遮光装置位于曝光工位时，所述遮光装置的遮光区遮挡掩膜版的对准区域；在所述遮光装置位于对准工位时，所述曝光光束仅照射所述掩膜版的对准区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 曝光系统及曝光方法
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