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申请/专利权人：财团法人工业技术研究院
摘要：一种样本深度量测装置与方法，样本深度量测装置包括光源单元、光调变单元、光谱感测单元、影像感测单元及处理单元。光源单元投射第一光路至样本并接收从该样本反射的第二光路。光调变单元倾斜该第二光路而变成第三光路或第四光路。光谱感测单元接收第三光路以撷取对应这些微米结构的光谱。影像感测单元接收第四光路以撷取对应该样本的量测影像。处理单元于该量测影像上识别这些微米结构的至少一个的位置时，该处理单元就该识别的区域量测来自该光谱上这些微米结构的至少一个所具有的深度。
主权项：1.一种样本深度量测装置，其特征在于，包括：一光源单元，投射一第一光路至一样本，并接收从该样本反射的一第二光路，其中该样本包括多个阵列的微米结构及所述微米结构以外的一表面，且所述微米结构的每一个具有低于该表面的一底部；一光调变单元，包括多个阵列的光强反射元件，该第二光路经由其中一个或多个所述光强反射元件倾斜而变成一第三光路或一第四光路；一光谱感测单元，接收该第三光路而撷取对应所述底部的一光谱；一影像感测单元，接收该第四光路，以撷取对应该样本的一量测影像；以及一处理单元，耦接该光调变单元、该光谱感测单元及该影像感测单元，于该量测影像上识别所述底部的至少一个的位置时，该处理单元就该识别的区域量测来自该光谱上所述底部的至少一个至该表面的深度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 财团法人工业技术研究院 样本深度量测装置与方法
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