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申请/专利权人：无锡零一未来新材料技术研究院有限公司
摘要：本发明提供一种环状硫酸酯的后处理方法，包括：S1将反应后含有环状硫酸酯的反应液进行静置分层处理，得到第一有机相，然后将第一有机相进行水洗处理，得到第二有机相；S2将第二有机相进行常压蒸馏处理或减压蒸馏处理，得到第三有机相；S3将第三有机相进行真空蒸馏处理，得到第四有机相；S4将第四有机相进行氮气吹脱处理，得到第五有机相；S5将第五有机相进行分子筛脱水处理，再通过抽滤处理去除分子筛，得到环状硫酸酯成品。本发明的后处理方法在低温下实现了对环状硫酸酯的杂质、色度、水分、有机溶剂残留的降低，避免高温真空精馏或者分子蒸馏，保证了环状硫酸酯的品质。
主权项：1.一种环状硫酸酯的后处理方法，其特征在于，包括：S1、将反应后含有环状硫酸酯的反应液进行静置分层处理，得到第一有机相，然后将所述第一有机相进行水洗处理，得到第二有机相；S2、将所述第二有机相进行常压蒸馏处理或减压蒸馏处理，得到第三有机相；S3、将所述第三有机相进行真空蒸馏处理，得到第四有机相；S4、将所述第四有机相进行氮气吹脱处理，得到第五有机相；S5、将所述第五有机相进行分子筛脱水处理，再通过抽滤处理去除分子筛，得到环状硫酸酯成品；步骤S1中，所述含有环状硫酸酯的反应液通过以环状亚硫酸酯为原料，分散于有机溶剂中，之后加入固相催化剂，在1atm下于10-35℃加入过氧化氢水溶液进行反应，反应结束后得到所述含有环状硫酸酯的反应液；步骤S1中，所述水洗处理为：将所述第一有机相和去离子水在分液漏斗中于0-10℃下进行混合，之后静置分层，分离得到下层清液即为第二有机相；步骤S2中，所述常压蒸馏处理的压力为1atm，温度为40-60℃；所述减压蒸馏处理的绝对压力为10-30KPa，温度为10-50℃；所述第三有机相中，有机溶剂残留率为0.5％-5％；步骤S3中，所述真空蒸馏处理中采用油泵进行抽真空，所述真空蒸馏处理的绝对压力≤3KPa，温度为20-40℃；所述第四有机相中，有机溶剂残留率为0.4-1％。
全文数据：
权利要求：
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