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一种集成平面透镜的雪崩二极管阵列器件及其制备方法 

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申请/专利权人:边际科技(珠海)有限公司

摘要:本发明涉及一种集成平面透镜的雪崩二极管阵列器件及其制备方法,该器件的n区衬底的一侧端面具有n区欧姆联接层,另一侧端面设有由7个单模APD探测器构成的APD探测器阵列,其中6个单模APD探测器环形阵列分布在1个单模APD探测器的四周,相邻两个单模APD探测器的中心间距相等;n区衬底的另一侧端面还具有p区欧姆联接层,p区欧姆联接层的一侧表面具有硬掩模基底垫层,硬掩模基底垫层的一侧表面具有平面透镜纳米单元阵列区,通过该平面透镜纳米单元阵列区实现亚波长的聚焦效果,使入射光线变成汇聚的光束,有效聚焦到光电二极管的光敏区域上充分利用,同时减小了到达受光面上的面积,等效提高填充系数,提升光电转换效率,提高探测灵敏度。

主权项:1.一种集成平面透镜的雪崩二极管阵列器件,其特征在于,包括有n区衬底(101),所述n区衬底(101)的一侧端面具有n区欧姆联接层(301),所述n区衬底(101)与具有n区欧姆联接层(301)的一侧端面相对的另一侧端具有APD探测器阵列,所述APD探测器阵列由7个单模APD探测器(100)构成,其中6个单模APD探测器(100)环形阵列分布在1个单模APD探测器(100)的四周,且相邻两个单模APD探测器(100)之间的中心间距相等;所述n区衬底(101)的另一侧端面还具有p区欧姆联接层(302),所述p区欧姆联接层(302)覆盖住所述APD探测器阵列;所述p区欧姆联接层(302)远离所述APD探测器阵列的一侧表面具有硬掩模基底垫层(400);所述硬掩模基底垫层(400)远离所述p区欧姆联接层(302)的一侧表面具有平面透镜纳米单元阵列区(401),所述平面透镜纳米单元阵列区(401)正对着所述APD探测器阵列。

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