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一种屏蔽栅沟槽VDMOS器件 

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申请/专利权人:广微集成技术(深圳)有限公司

摘要:本实用新型提出了一种屏蔽栅沟槽VDMOS器件,包括:衬底,中间层,半绝缘层,栅极层;中间层布置于衬底的上侧,包括漂移层以及源极层;漂移层布置于衬底,漂移层的上侧布设有源极层;其中,在中间层中形成有至少一个沟槽;半绝缘层设于沟槽内部,与漂移层接触,并具有电阻率;栅极层,设于沟槽内,靠近源极层,并与半绝缘层的上表面接触。本实用新型通过对沟槽内结构的改进,提高了器件耐压能力。

主权项:1.一种屏蔽栅沟槽VDMOS器件,其特征在于,包括:衬底;中间层,布置于所述衬底的上侧,包括漂移层以及源极层;所述漂移层布置于所述衬底,所述漂移层的上侧布设有源极层;其中,在所述中间层中形成有至少一个沟槽;半绝缘层,设于所述沟槽内部,与所述漂移层接触,并具有电阻率;栅极层,设于所述沟槽内,靠近所述源极层,并与所述半绝缘层的上表面接触。

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权利要求:

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