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申请/专利权人：中国科学院理化技术研究所
摘要：本发明提供了式I所示的聚合物，其可以作为多波段感光的光刻胶主体材料，直接旋涂成膜并应用于I‑线、193nm光刻、248nm光刻、436nm光刻、电子束或极紫外光刻中。所述聚合物为非化学放大光刻胶，且可通过对聚合单体进行官能化来改变聚合物的吸收波长，从而得到在多波长有响应的光刻胶材料。
主权项：1.式I所示的聚合物： 其中：x与y表示聚合物中两种单体的摩尔分数，0.2≤x≤1，0≤y≤0.8，且x+y＝1；R选自R1选自CN、C1-12烷基、卤代C1-12烷基、C6-20芳基或5-20元杂芳基；R2选自氢、羟基、CN、卤素、磺酸钠、C1-12烷基、C1-12烷氧基、卤代C1-12烷基或-COC1-12烷基；R3选自无取代，或任选被一个，两个或更多个Rs取代的下列基团：-NC6-20芳基2、C6-20芳基或5-20元杂芳基；Rs选自CN、卤素、磺酸钠、C1-12烷基、C1-12烷氧基、C1-12烷硫基、卤代C1-12烷基、-O-C6-20芳基、-O-5-20元杂芳基、-O-C1-12烷基-C6-20芳基、-O-5-20元杂芳基、-O-C1-12烷基-5-20元杂芳基、-NC1-12烷基2、-NHC1-12烷基、-NC6-20芳基2、-NHC6-20芳基、-S-C6-20芳基或-COC1-12烷基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院理化技术研究所 一类适用于多种波长光刻的联苯类非化学放大型光刻胶及其制备方法和应用
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