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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：处理室系统包括被配置成将衬底固定在第一处理室内的衬底安装模块。该系统还包括被配置成将感光膜施加至衬底的正侧表面的第一沉积模块以及被配置成将膜层施加至衬底的背侧表面的第二沉积模块。正侧表面与衬底的背侧表面相反。衬底具有裸露的背侧表面，该裸露的背侧表面具有第一摩擦系数。在衬底的背侧表面上形成膜层。形成在衬底的背侧表面上的膜层具有第二摩擦系数。第二摩擦系数低于第一摩擦系数。
主权项：1.一种处理衬底的方法，所述方法包括：将所述衬底容纳在衬底处理室中，所述衬底具有正侧表面和与所述正侧表面相反的背侧表面，在形成膜层之前所述衬底的背侧表面具有第一摩擦系数；以及在所述衬底的所述背侧表面上形成含氟化学物质膜层，在所述衬底的背侧表面上形成的所述膜层具有第二摩擦系数，所述第二摩擦系数低于所述第一摩擦系数；以及其中所述含氟化学物质膜层包含以下中的一者：全氟癸基一氯二甲基硅烷、全氟辛基一氯二甲基硅烷、全氟丁基一氯二甲基硅烷、全氟癸基乙氧基二甲基硅烷、全氟辛基甲氧基二甲基硅烷或全氟癸基甲氧基二甲基硅烷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 衬底的背侧摩擦减小
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